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直接向中高端光刻胶领域发起进攻
作者:VSport 时间:2026-01-16 浏览: 来源:VSport

  

直接向中高端光刻胶领域发起进攻

  据央视新闻客户端报道◆,1月12日,工业和信息化部党组书记●•□、部长李乐成在接受采访时称■☆☆,中国的人工智能发展▼▼◆,场景应用优势、人才优势非常明显。“中国经济,我一直都是充满着信心▼。▲▽=”

  在访谈中,李乐成着重介绍了展览的装光刻胶的玻璃瓶△,称其是重大的科技攻关内容之一。

  李乐成说道-,这个玻璃瓶能确保光刻胶在运输和保管储藏过程中不受污染◁▼、不受影响◆☆□,结束了中国过去光刻胶整个行业几乎100%依赖国外的历史,…•=“现在这个产品已经在产线上试用了…,反应很好。★△△”

  李乐成表示,今年要深入推进的工作包括一定要把高质量科技供给抓上来-▼△,要提升企业科技创新的主体地位◇,实现科技成果的转化。工业增长要更多依靠--“价值创造”和“以质取胜▼▷”。传统产业焕新,新兴产业壮大,集成电路…、新材料、航空航天、生物制造、具身智能、6G 等都是重点▪●。

  关于如何让科技创新和产业创新深度融合▽◁•,李乐成表示,构建全国制造业中试服务网络□•,架好“实验室”到“生产线”的桥梁。要推进科技成果◆▪“先使用后付费”等改革试点◁-=、高新技术成果产业化试点等;加快“找场景”和▼▲▼“造场景”的结合,发挥重点应用场景“连接器”作用◁□,促进创新链产业链无缝对接。

  李部长说◆,虽然今年面临外部环境变化•▼、新旧动能转换等挑战•□,但这些都是发展中的困难•■◇、转型中的问题,只要我们坚定信心○、迎难而上,用创新的思路••、改革的办法,把优势条件用足用好▲,就完全能够推动中国经济行稳致远、不断发展。

  据介绍,光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括光引发剂、光刻胶树脂、单体▲•◇、溶剂和其他助剂▷○,是光刻工艺中使用的材料。当向晶圆照射光线(曝光)以刻印半导体微细电路时◆,在晶圆表面对光产生反应的物质就是光刻胶。根据应用领域不同,光刻胶可以分为面板光刻胶(也称“LCD光刻胶”)、PCB光刻胶和半导体光刻胶…△,按曝光波长不同,可分为g线◁•、i线、KrF•△、ArF、EUV光刻胶等种类◆。

  光刻胶的重要性已不言而喻,目前为止,包括JSR、信越化学◇▲、东京应化TOK等日本供应商和美国杜邦占据了全球光刻胶市场的大部分份额•,尤其是在7nm以下的芯片先进制程市场●。不过国产企业近年来也在加速布局,力争国产化替代。

  例如,彤程新材是国内深紫外KrF光刻胶最大量产供应商以及国内首家TFT-LCD Array光刻胶生产商、国内最大的液晶正性光刻胶本土供应商。2025年前三季度▼,公司实现营收25□▼=.23亿元,同比增长4△=.06%,实现归母净利润4.94亿元,同比增长12.65%◁…。此外,彤程新材正筹划申请在香港联交所主板挂牌上市…▷。

  而南大光电选择跳过G线、I线=…,直接向中高端光刻胶领域发起进攻。目前-,南大光电的ArF光刻胶已通过部分客户验证◁◇▲,实现规模化量产◆-。其最新透露,2024年度ArF光刻胶收入突破千万元,2025年保持连续稳定供货,子公司宁波南大光电ArF光刻胶的产能为50吨/年。

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